日本理學連續波長色散X射線熒光光譜儀ZSX Primus 400-華普通用
型號：ZSX Primus 400
Rigaku 獨特的 ZSX Primus 400 連續波長色散 X 射線熒光 (WDXRF) 光譜儀專為處理非常大或重的樣品而設計。
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產品描述
Rigaku 獨特的 ZSX Primus 400 連續波長色散 X 射(she)線(xian)熒(ying)光 (WDXRF) 光譜儀(yi)專(zhuan)為(wei)處(chu)理非常大或(huo)重的樣(yang)品(pin)而設(she)計。該系(xi)統可(ke)接受直徑最(zui)大為(wei) 400 毫米、厚度為(wei) 50 毫米和質量為(wei) 30 千(qian)克的樣(yang)品(pin)，非常適合分析(xi)濺射(she)靶材、磁盤，或(huo)用于多層薄(bo)膜(mo)計量或(huo)大型樣(yang)品(pin)的元素分析(xi)。
優點
帶有定(ding)制樣品適(shi)配器系統的 XRF,適(shi)應特定樣品分析需求的多功能性，可(ke)使用可(ke)選(xuan)適(shi)配器(qi)插件適(shi)應各種樣品尺寸和形狀(zhuang)。憑借可(ke)變測量(liang)點（直徑 30 毫(hao)米至 0.5 毫米(mi)，具(ju)有 5 步自(zi)動選擇(ze)）和具有多點測量的映射(she)功能(neng)以檢查樣品均勻性。
具(ju)有可用相機(ji)和(he)特殊照明的 XRF,可(ke)選的(de)實時攝像頭允許在軟件中查看分析區域。
仍保留了傳統儀器的所(suo)有分析能力。
安全性
采用(yong)上(shang)照射設計,樣品室可簡單移出，再不用擔心污染光路，清理麻煩和增加清理時間等問題。
應用領域
固(gu)體、液體、粉末、合金和薄(bo)膜的元素分析(xi):
濺(jian)射(she)靶材組成.
隔(ge)離膜：SiO2、BPSG、PSG、AsSG、Si?N?、SiOF、SiON等。
高 k 和(he)鐵電介質薄膜(mo)：PZT、BST、SBT、Ta2O5、HfSiOx
金屬薄膜：Al-Cu-Si、W、TiW、Co、TiN、TaN、Ta-Al、Ir、Pt、Ru、Au、Ni等。
電極膜：摻(chan)(chan)雜多(duo)晶硅（摻(chan)(chan)雜劑：B、N、O、P、As）、非(fei)晶硅、WSix、Pt等。
其(qi)他(ta)摻雜(za)薄膜（As、P）、困惰(duo)性氣體（Ne、Ar、Kr等(deng)）、C（DLC）
鐵電(dian)薄膜、FRAM、MRAM、GMR、TMR；PCM、GST、GeTe
焊料凸點成(cheng)分(fen)：SnAg、SnAgCuNi
MEMS：ZnO、AlN、PZT的厚度和(he)成分
SAW器件工(gong)藝：AlN、ZnO、ZnS、SiO 2（壓電薄(bo)膜）的厚度和成分；Al、AlCu、AlSc、AlTi（電極膜(mo)）
■ 技術參數
大樣本分析(xi)：最大(da) 400 毫米（直(zhi)徑），最大(da) 50 毫米（厚(hou)度），高達 30 千克（質量）
樣(yang)品適(shi)配器系(xi)統，適用(yong)于各(ge)種樣本量(liang)
測量點(dian)：30 毫米至 0.5 毫米直(zhi)徑(jing)，5步自動選(xuan)擇(ze)
映射能(neng)力，允許多(duo)點測(ce)量
樣品視(shi)圖(tu)相機（可選）
分析范圍：Be - U
元素范圍(wei)：ppm 至 %
厚度(du)范圍：sub ? 至 mm
衍射干(gan)擾抑制（可(ke)選）：單晶(jing)襯底的準(zhun)確(que)結(jie)果(guo)
符合行業標準：SEMI、CE標志
占地(di)面積小，以前型(xing)號的 50% 占地面積