全反射(she) X 射(she)線熒光(guang)(guang)光(guang)(guang)譜(pu)儀TXRF 3760分析可(ke)以測量所有晶圓(yuan)廠(chang)工藝中(zhong)的(de)污(wu)染，包括清(qing)潔、光(guang)(guang)刻、蝕刻、灰化、薄膜等。全反射(she) X 射(she)線熒光(guang)(guang)光(guang)(guang)譜(pu)儀TXRF 3760 可(ke)以使用單目標 3 光(guang)(guang)束 X 射(she)線系統(tong)和無液(ye)氮探測器系統(tong)測量從鈉到 U 的(de)元素(su)。

全反射 X 射線熒光光譜儀TXRF 3760 包括理學獲得專利(li)的 XYθ 樣品臺系統、真空(kong)晶圓(yuan)機器人(ren)傳輸系統和新的用戶友好型窗口軟件。所(suo)有(you)這些(xie)都有(you)助(zhu)于提高吞吐(tu)量、更高的準確(que)度(du)(du)和精(jing)度(du)(du)，以及簡(jian)化的日(ri)常(chang)操(cao)作。

可(ke)選(xuan)的(de)(de)掃描TXRF軟件可(ke)以(yi)繪制晶圓表面上(shang)的(de)(de)污染(ran)物分布圖，以(yi)識別(bie)可(ke)以(yi)更高精(jing)度自動(dong)重新測(ce)量的(de)(de)“熱點”。可(ke)選(xuan)的(de)(de) ZEE-TXRF 功能克(ke)服了原始 TXRF 設(she)計(ji)歷史上(shang) 15 mm 邊緣(yuan)(yuan)排(pai)除的(de)(de)問題，使(shi)測(ce)量能夠以(yi)零邊緣(yuan)(yuan)排(pai)除進行。

• 易于操作，分(fen)析結果快速

• 接受(shou) 200 mm 及(ji)更小的(de)晶圓

• 緊湊的(de)設計，占(zhan)地面積

• 大功率旋轉陽極源

• 多種分析(xi)元素（Na~U）

• 輕元素(su)靈敏度（針對鈉、鎂和鋁）

• 應用于裸硅和非硅基板

• 從缺(que)陷檢測工具導(dao)入(ru)測量坐標(biao)以進行后續分析